对于中国来说，既然敢卖，那也是有原因的，随着分布式投影光刻机的投入使用，芯片制程已经来到了一微米，即便暂时不能量产，但是未来两三年内
到1.5微米，问题还是不大的，而这刚好是
国从中国引
的三微米制程新工艺投入使用的时期。
这
光刻机的极限能到0.35微米，至于新闻上说有望突破至纳米级，那完全是吹嘘，它需要新一代的氟化铔duv光刻机，而它目前还在研发当中，八十年代中期能Loading...
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